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        今天是2021年11月30日 星期二,歡迎光臨本站 

        國際實驗室展會,國際光電展會,國際環保展會

        光電展

        2022年SPIE光刻技術博覽會SPIE Advanced Lithography

        文字:[大][中][小] 手機頁面二維碼 2018/11/6     瀏覽次數:    

            

        點擊下載:   2021年展商名單    2021年展位圖


        展會時間:20223月2-3 (線上展會)                   

        舉辦周期:每年一屆

        主辦方:美國國際光學工程協會SPIE

         

        展會簡介

        2022美國SPIE光刻技術博覽會是推動未來光刻研究及應用的重要展會。同時也為參展商與其他領域的合作伙伴共同尋求新的合作機會。SPIE先進光刻技術會議(SPIE Advanced Lithography2022)是全球領先的光刻技術盛會,大會涵蓋諸如光學光刻技術、EUV光刻技術、新型圖案化技術、測量、檢測和光刻工藝控制、材料及工藝改進、設計工藝協同優化以及先進刻蝕等領域的先進光刻與圖形化技術。對于材料供應商、設備制造商及先進芯片生產商來說,都是不可錯過的一場技術大餐。2020年展會共有54家參展商,展期共有7場會議,15場課程培訓,500余份技術論文,吸引2100名與會者。

         

         

        為什么要參展?

        1)與行業專家面對面交流并觀摩該行業最先進的科技裝備。

        2)對行業領域最新研發的產品和研究成果,企業可現場見到相關的專家人員(科學家,工程師,開發人員)并同時能夠對其進行比較和分析。

        3)到圣何塞與當地供應商和項目合作伙伴建立合作聯系。

         

         

        參展范圍:

        光刻:浸入式,雙重圖案,電子束,EUV,光學/激光,RET

        計量,檢查,OPC和過程控制

        設計和制造軟件

        材料和化學品

        成像設備

        激光器

        抵制材料和加工

        納米壓印

        IC和芯片制造

        納米級成像

        用于納米圖案的蝕刻技術

         

         

        2022年會議主題:

        ? Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography

        ? Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS

        ? Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography

        ? Advances in Patterning Materials and Processes

        ? Optical Microlithography

        ? Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability

        ? Advanced Etch Technology for Nanopatterning

         

        現場圖片:

                         

                          

         


        上海品恩展覽有限公司
        Shanghai PINEN Exhibition CO.LTD

        上海品恩展覽有限公司(PE)是一家提供國際展覽展示服務的專業機構。成立伊始,我公司就把服務貿易,立足誠信與專業作為公司的宗旨,主要從事大型境外展會組織與服務、展臺設計搭建、國際貨運代理、國際商貿咨詢、商務考察辦理、出國簽證協助服務、海外市場推廣等國際商務及延伸服務。

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